Journal Of Microelectromechanical Systems

Journal Of Microelectromechanical Systems英文簡(jiǎn)介

The topics of interest include, but are not limited to: devices ranging in size from microns to millimeters, IC-compatible fabrication techniques, other fabrication techniques, measurement of micro phenomena, theoretical results, new materials and designs, micro actuators, micro robots, micro batteries, bearings, wear, reliability, electrical interconnections, micro telemanipulation, and standards appropriate to MEMS. Application examples and application oriented devices in fluidics, optics, bio-medical engineering, etc., are also of central interest.

Journal Of Microelectromechanical Systems中文簡(jiǎn)介

《Journal Of Microelectromechanical Systems》是一本由IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC出版商出版的專業(yè)工程技術(shù)期刊，該刊創(chuàng)刊于1992年，刊期Bimonthly，該刊已被國(guó)際權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE、SCI收錄。在中科院最新升級(jí)版分區(qū)表中，該刊分區(qū)信息為大類學(xué)科：工程技術(shù) 3區(qū)，小類學(xué)科：工程：電子與電氣 3區(qū)；儀器儀表 3區(qū)；納米科技 3區(qū)；物理：應(yīng)用 3區(qū)；在JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)等級(jí)為Q2。該刊發(fā)文范圍涵蓋工程：電子與電氣等領(lǐng)域，旨在及時(shí)、準(zhǔn)確、全面地報(bào)道國(guó)內(nèi)外工程：電子與電氣工作者在該領(lǐng)域取得的最新研究成果、工作進(jìn)展及學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)、技術(shù)革新等，促進(jìn)學(xué)術(shù)交流，鼓勵(lì)學(xué)術(shù)創(chuàng)新。2021年影響因子為2.829，平均審稿速度約3.0個(gè)月。

中科院分區(qū)最新升級(jí)版（當(dāng)前數(shù)據(jù)版本：2021年12月最新升級(jí)版）

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術(shù)	3區(qū)	INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)	否	否

中科院分區(qū)最新基礎(chǔ)版（當(dāng)前數(shù)據(jù)版本：2021年12月最新基礎(chǔ)版）

大類學(xué)科	分區(qū)	小類學(xué)科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術(shù)	3區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū)	否	否

中科院JCR分區(qū)歷年趨勢(shì)圖

JCR分區(qū)（當(dāng)前數(shù)據(jù)版本：2021-2022年最新版）

JCR分區(qū)等級(jí)	JCR所屬學(xué)科	分區(qū)	影響因子
Q2	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC	Q2	2.829
	PHYSICS, APPLIED	Q2
	INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION	Q2
	NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY	Q3

期刊指數(shù)

影響因子	h-index	Gold OA文章占比	研究類文章占比	OA開放訪問(wèn)	平均審稿速度
2.829	131	6.65%	99.22%	未開放	約3.0個(gè)月

IF值(影響因子)趨勢(shì)圖